第二百九十九章 摩爾定律你聽說過沒有（第1頁(yè)）

滄海揚(yáng)帆第一卷風(fēng)起云涌第二百九十九章摩爾定律你聽說過沒有08實(shí)驗(yàn)室正在研制的光刻膠，也是國(guó)家半導(dǎo)體后備技術(shù)的一部分。在這個(gè)時(shí)期，光刻膠并不屬于國(guó)外向中國(guó)禁售的產(chǎn)品。國(guó)際上生產(chǎn)光刻膠的廠商眾多，國(guó)內(nèi)的半導(dǎo)體企業(yè)能夠輕而易舉地買到各種光刻膠，而且價(jià)格也并不昂貴。然而，國(guó)家卻依然向楓林研究所下達(dá)了研制光刻膠的任務(wù)，其目的就是為了萬一遭遇到國(guó)外的封鎖，國(guó)內(nèi)自己也能夠提供出合用的光刻膠，確保少數(shù)關(guān)系國(guó)家安全的集成電路的生產(chǎn)不受影響。所有的人都知道，國(guó)內(nèi)自己研制的光刻膠生產(chǎn)成本會(huì)遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于進(jìn)口產(chǎn)品，質(zhì)量則是遠(yuǎn)遠(yuǎn)不及，在市場(chǎng)上是絕對(duì)沒有競(jìng)爭(zhēng)力的。但是，當(dāng)事關(guān)國(guó)家生死存亡的時(shí)候，這些問題還有必要考慮嗎？楓林研究所研究的許多技術(shù)，都具有這樣的特征。相比西方國(guó)家而言，這些技術(shù)平均要落后一至兩代，即使送給別人，人家也不屑一顧?？蛇@并不意味著楓林研究所的保密制度就是多余的。保密的目的在于讓對(duì)手不清楚我們的研究進(jìn)度到了哪一步，無論對(duì)方高估或者低估了我們的水平，都會(huì)在戰(zhàn)場(chǎng)博弈或者經(jīng)濟(jì)博弈中犯下一些或大或小的錯(cuò)誤，而這些錯(cuò)誤，可能就會(huì)成為我們的機(jī)會(huì)。這是弱者的一種生存策略。高凡對(duì)于國(guó)家的整體策略并不十分了解，但在他從云中明那里聽到“光致抗蝕劑”這個(gè)詞的時(shí)候，他就產(chǎn)生出了一個(gè)念頭：或許，自己能夠做一些事情?！靶鞄熜?，我聽畢主任說，你們正在研究的是g線光刻膠。對(duì)于i線以及krf光刻膠，你們有沒有涉及？”高凡問道。他說的畢主任，叫畢連生，是08實(shí)驗(yàn)室的室主任，一位不茍言笑的中年知識(shí)分子。光刻技術(shù)，按照使用的光源不同，可以分為許多類，或者稱為不同代際也可以。上世紀(jì)60年代，光刻技術(shù)剛剛出現(xiàn)的時(shí)候，使用的是普通的可見光光源，那時(shí)候的光刻機(jī)其實(shí)就是拿一個(gè)大燈泡照射掩膜板，和照相館里沖洗照片沒啥區(qū)別。80年代，光源進(jìn)化為采用高壓放電汞燈產(chǎn)生的436納米和365納米光源，前者稱為g線光源，后者稱為i線光源，都屬于近紫外光源。90年代之后，出現(xiàn)了使用準(zhǔn)分子激光器的248納米、193納米和157納米光源，分別稱為krf、arf和f2光源，屬于深紫外光源。再至于被譽(yù)為“皇冠上的明珠”的euv光刻機(jī)，使用的是13。3納米的極紫外光源，它的出現(xiàn)時(shí)間已經(jīng)要算到2010年之后了。時(shí)下，g線光源還是集成電路制造中使用的主流光源。i線光源光刻機(jī)已經(jīng)問世，但還沒有得到大規(guī)模推廣。至于krf，實(shí)驗(yàn)室概念已經(jīng)提出來了，真正投入使用，還得是十年后的事情。光刻的原理，與沖洗照片是一樣的。首先，要把電路圖制作成底片，稱為掩膜。光源通過掩膜照射在涂了光刻膠的芯片基材上。光刻膠由樹脂、感光劑、溶劑和添加劑組成，其中的感光劑在光線照射下會(huì)發(fā)生反應(yīng)，使曝光區(qū)的光刻膠溶解，這就相當(dāng)于把掩膜上的電路圖案復(fù)制到了芯片基材上。隨后，再進(jìn)行蝕刻、離子注入、封裝等操作，一枚芯片就制作完成了。光刻膠中感光劑的選擇，與光源是密切相關(guān)的，這涉及到化合物在不同波長(zhǎng)光線作用下的變化，機(jī)理十分復(fù)雜。徐云是知道這些概念的。他原本就是物理系的學(xué)生，楓林研究所聘請(qǐng)他的老師前來參與這個(gè)項(xiàng)目，就是因?yàn)槠渲猩婕暗揭恍┕鈱W(xué)方面的問題。他在項(xiàng)目組里耳濡目染了這么久，對(duì)于這些問題自然是非常了解的。聽到高凡的問題，徐云也只能把心里那些雜念拋開，認(rèn)真地答道：“我們現(xiàn)在研究的重點(diǎn)，就是g線光刻膠，這也是目前應(yīng)用最廣泛的?！癷線光刻膠這方面，畢主任在實(shí)驗(yàn)室會(huì)議上提過幾次，讓大家有時(shí)間做一些積累，不過目前條件還不成熟。再至于說krf光刻膠，好像國(guó)外也剛剛開始研究吧？”“你說i線光刻膠的條件不成熟，是指什么？”高凡問道。徐云道：“不是我說的，而是畢主任說的?，F(xiàn)在國(guó)內(nèi)根本就沒有使用i線光源的光刻機(jī)，國(guó)外也不多，研究i線光刻膠，是不是有些操之過急了？”“我想跟你說的，就是這個(gè)?！备叻舱f，“對(duì)了，徐師兄，摩爾定律你聽說過沒有？”“當(dāng)然聽說過?！毙煸撇环薜卣f，“不就是集成電路上的晶體管數(shù)量，每?jī)赡昃驮黾右槐秵?？我們好幾個(gè)老師上課的時(shí)候都提過?！薄安焕⑹强拼?，思維很前衛(wèi)?！备叻猜N個(gè)大拇指，贊了一句，卻換來了徐云一個(gè)白眼。摩爾定律是1965年提出的，不過直到70年代中期才受到人們的重視。隨著集成電路技術(shù)的迅猛發(fā)展，摩爾定律一再得到印證，一時(shí)間在西方科技界和產(chǎn)業(yè)界倍受推崇。此時(shí)的中國(guó)，在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)上完全是小透明，根本不具備評(píng)論半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的資格，因此也就沒什么人會(huì)關(guān)注和提及摩爾定律。徐云說他有好幾位老師上課時(shí)候都提過摩爾定律，高凡自然是要表示欽佩的。只是以他的身份，擺出這樣一副嘴臉來夸獎(jiǎng)中科大，徐云怎么能不對(duì)他表示一番鄙夷?！凹热荒阒滥柖桑敲茨阆胂肟?，芯片制造技術(shù)將會(huì)以什么樣的速度發(fā)展？g線光刻機(jī)肯定很快就會(huì)落伍，下一代i線光刻機(jī)會(huì)迅速普及。不出十年，市場(chǎng)主流就會(huì)是krf光刻機(jī)?！备叻操┵┒劇Ｐ煸圃谛睦锬肓艘幌?，點(diǎn)點(diǎn)頭道：“你說得有理，不過，這也是國(guó)際市場(chǎng)的潮流吧？咱們國(guó)內(nèi)現(xiàn)在連g線光刻機(jī)都沒能掌握，你說的krf，怎么也得是20年以后的事情了?！薄拔覀?yōu)槭裁淳筒荒苊闇?zhǔn)國(guó)際市場(chǎng)呢？”高凡看著徐云，“造光刻機(jī)，需要高精密機(jī)床，咱們一時(shí)造不出來。可是光刻膠的技術(shù)沒多高的門檻，咱們?yōu)槭裁床荒芴崆耙徊秸碱I(lǐng)這個(gè)市場(chǎng)呢？”